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江西省污水厂二氧化氯发生器消毒设备的厂家

  • 更新时间:  2018-03-02
  • 产品型号:  HCFM
  • 简单描述
  • 江西省污水厂二氧化氯发生器消毒设备的厂家
    产品组成:
    供料系统、反应系统、控制系统、真空吸收系统、安全系统
    反应原理:
    NaCLO3+2HCL=NaCL+CLO2+1/2CL2+H2O
详细介绍

江西省污水厂二氧化氯发生器消毒设备的厂家-张舒青

江西省污水厂二氧化氯发生器消毒设备的厂家-张舒青

二氧化氯(C102)由于可以克服氯消毒的种种弊端,并以其高效广谱的杀菌能力,优良的氧化、脱色和除嗅效果在自来水消毒中得到了越来越广泛的应用。在C102消毒饮用水的过程中,尽管不产生有害的有机副产物,但是水中却会产生一定的亚氯酸盐(Cl(F)和氯酸盐(C103)等无机副产物。据文献[1]介绍,高浓度的C1旺具有导致人体溶IIIL性贫血和抑制人体甲状腺素分泌的潜在危害。Cl(F在人体内经硝酸盐还原酶的催化作用下会很快转化为ClOz,因此ClOs具有和CI(F相类似的毒性【2J。然而,CICX-和ClCX-的毒性主要表现在高浓度的情况下,在常规消毒的ClQ浓度下(通常为1 mg/L左右),所产生ClQ和CIOj的量不足以引起对人的危害f3]。但是为了消除ClQ消毒的安全隐患,一些国家或组织对ClQ消毒后的饮用水中C102-和CI(耳的含量进行了限制。US EPA于2001年规定出厂水中CIOa不超过0.8 mg/L,C102不超过1.0mg/Lo我国的生活饮用水标准(GB 5749—2006)规定出厂水中ClQ
不得超过0.8 mg/l。,CIO[和CIOs-均不得超过0.7 mg/L。

-张舒青

自来水中Cl(F和CI(F的产生途径主要有以下几种[4]:①C102制备过程,NaCl02或NaCIOa与HCl反应不完全导致残留CI(石和CIO;;②c102氧化水中有机或无机还原性物质失去一个电子生成c102-;③自身水解、光解等衰变反应生成CI(F和Cl(i。对于Cl@制备过程产生的C102-和CI(i应该首先控制这町以减少消毒过程主动带入的CI(F和C10f的量。-采用单级Kesting(或R5)工艺(NaCl(h+HCI)的化法二氧化氯发生器由于原料价格低廉,制备丁艺简单和易于操控等优点使其成为自来水消毒的*设备。但是这种二氧化氯发生器的C102得率和NaCl(h的转化率均无法达到Kesting法工业规模多级反应的水平,致使发生液中带有残留的NaC103和Clz。而二氧化氯生器的NaCl(h转化率、ClQ纯度和Clz产量与发生器的原料配比、反应时间和反应温度等运行参数均有关,因此设置合适的运行参数来提高NaCl03转化率和Cl(_)2的纯度,可以从源头上减少C10-的残留及副产物Clz产量,从而减少C1()2消毒后水中副产物的含量

 


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